सोडियम हाइड्रोसल्फाइडस्य शुद्धिः : पृष्ठभूमिः अन्वेषणं च

पेट्रोलियम-रासायनिक-उद्योगे वैक्यूम-आसवनम्, उत्प्रेरक-दरारः इत्यादीनां शोधन-प्रक्रियाणां सामान्यतया अम्ल-वायुः उत्पद्यते । एतेषु अम्लवायुषु सामान्यतया ८५%–९५% हाइड्रोजनसल्फाइड् (H2S), ३%–१०% कार्बनडाय-आक्साइड् (CO2), २%–५% कार्बनिकवायुः, ०.५%–३% अन्ये घटकाः च भवन्ति

लघु-मध्यम-आकारस्य शोधनालयाः प्रायः एतान् अम्लवायुनाम् ३०% सोडियम-हाइड्रोक्साइड् (NaOH)-विलयनेन अवशोष्य उपचारं कुर्वन्ति । NaOH H2S इत्यनेन सह विक्रिया कृत्वा निर्माणं करोति सोडियम हाइड्रोसल्फाइड (NaHS)। यदा विलयनस्य NaHS सान्द्रता ३०% भवति तदा विलयनस्य सान्द्रताप्रक्रिया भवति । निर्जलीकरणस्य सान्द्रीकरणस्य च अनन्तरं NaHS सामग्री ७०% यावत् वर्धते, ततः पिघलितं NaHS खण्डेषु खण्डितं भवति ।

परन्तु अम्लवायुषु CO2 भवति इति कारणतः उपचारकाले सोडियमकार्बोनेट् (Na2CO3) इत्यादीनि अशुद्धयः उत्पद्यन्ते, येन NaHS उत्पादस्य शुद्धता न्यूनीभवति

तदतिरिक्तं यदा मुक्त-ड्रम-फ्लेकर्-इत्यस्य उपयोगः पिघलित-NaHS-स्लाइस्-करणाय भवति तदा NaHS-इत्यस्य वायुमध्ये आक्सीजन-सहितं प्रतिक्रिया भवति, येन सोडियम-थियोसल्फेट् (Na2S2O3) भवति, यस्य क्षयः प्रवणः भवति, संग्रहणं च कठिनं भवति मुक्तस्लाइसिंग् इत्यनेन चिडयति वायुः अपि मुक्तः भवति, येन उत्पादनवातावरणं प्रदूषितं भवति ।

सोडियम हाइड्रोसल्फाइडस्य रियायती उद्धरणं प्राप्तुं अत्र क्लिक् कुर्वन्तु, आश्चर्यं भविष्यति।